Zastosowanie w dziedzinie półprzewodników
W produkcji półprzewodnikówcele wolframowestosowane są głównie w fotolitografii i technologii osadzania cienkowarstwowego. W procesie fotolitografii wysoka gęstość, wysoka twardość i niska reaktywność chemiczna tarcz wolframowych umożliwiają im precyzyjną kontrolę trawienia podczas trawienia plazmowego, zmniejszają niepotrzebne straty materiału oraz zapewniają dokładność i integralność wzorów obwodów. W technologii osadzania cienkowarstwowego cele wolframowe tworzą gęste warstwy poprzez fizyczne osadzanie z fazy gazowej (PVD) i chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD). Folie te charakteryzują się wysoką twardością i odpornością na zużycie, co poprawia wytrzymałość mechaniczną i trwałość urządzeń półprzewodnikowych. Jednocześnie ich wysoka przewodność i niska impedancja pomagają poprawić wydajność przewodzenia prądu i zmniejszyć zużycie energii.
Zastosowanie w źródłach neutronów spalacyjnych
Cele wolframowe odgrywają również kluczową rolę w urządzeniach będących źródłami neutronów spalacyjnych. Źródła neutronów spalacyjnych wytwarzają neutrony poprzez bombardowanie ciężkich jąder atomowych protonami o wysokiej energii, które wykorzystuje się do badania mikrostruktury i właściwości dynamicznych materii. Wolfram stał się preferowanym materiałem w urządzeniach do syntezy jądrowej i źródłach neutronów spalacyjnych ze względu na jego wysoką temperaturę topnienia, wysoką przewodność cieplną i niską szybkość rozpylania.